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中電化合物攜手浙大,聚焦碳化硅和氮化鎵

文章出處:寬禁帶半導體技術創新聯盟網責任編輯:作者:化合物半導體市場 Arely人氣:-發表時間:2022-06-23 16:09:00【

近日,中電化合物半導體有限公司和浙江大學材料科學與工程學院成立聯合培養實踐基地。

旨在加強產學研合作,聚焦碳化硅和氮化鎵材料,培養兼具豐富理論知識和實踐能力的高層次材料工程人才。

中電化合物以此為契機,加大人才引進力度,以創新為抓手,持續研發投入,打造公司的核心競爭力。

中電化合物公司是由中國電子下屬的華大半導體投資的一家做碳化硅SiC晶體、襯底、外延片和GaN外延片產品的專業化寬禁帶半導體材料制造企業。

2019年,中電化合物半導體項目落戶在寧波杭州灣新區,是浙江省首個第三代半導體項目,總投資10.5億元,規劃建設年產7萬片6吋SiC同質外延片生產線,和年產1萬片GaN外延片生產線;包含SiC晶體生長、襯底加工、外延生長、材料檢測工序。

2021年12月,中電化合物宣布中標寧波市重大科技任務攻關暨揭榜掛帥項目,聯合寧波比亞迪半導體有限公司和中國科學院寧波材料技術與工程研究所,共同建設“車規級MOS器件用大尺寸SiC材料研發、驗證及產業化”項目。

目前,中電化合物的碳化硅年產能已達2萬片,未來3年將達到8萬片,已向客戶提供了650V/1200V/1700V系列SiC外延片和GaN外延片等產品。

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