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    旋流器常用的耐磨材料[ 04-11 14:59 ]
    碳化硅具有比氧化鋁高的硬度、耐磨性的特點,并且碳化硅的燒制方法與氧化鋁相似。因碳化硅易被氧化生成SiO2,故必須在真空或在還原氣氛下繞結(jié)。碳化硅的燒結(jié)溫度一般在1800℃以上,成本高,限制了其在重介質(zhì)旋流器上的應用。
    碳化硅微粉除鐵主要工藝[ 04-11 14:45 ]
    碳化硅微粉除鐵主要工藝   1.化學除鐵工藝——酸浸法   碳化硅微粉中的鐵雜質(zhì)主要以單質(zhì)鐵及其氧化物化鐵的形式存在。因為單質(zhì)鐵及其三氧化鐵均溶于硫酸、硝酸、鹽酸等,生成可溶性鐵鹽通過加水洗滌可以去除。茆福煒用鹽酸來除碳化硅微粉,通過比較鹽酸濃度及反應溫度對除鐵率的影響,最終得到鹽酸濃度在180g/L、反應溫度為80℃除鐵率最高,此條件下除鐵率可以達到93%左右。王春利以硫酸、鹽酸、氫氟酸中的一種或者兩種作為浸取液,實驗結(jié)果表明:對于中值粒徑在0.5μm左右的
    碳化硅微粉去除碳雜質(zhì)主要工藝[ 04-10 17:00 ]
    碳化硅微粉去除碳雜質(zhì)主要工藝 1.化學除碳工藝 1.1加熱氧化法 通過對碳化硅微粉進行高溫煅燒,使碳化硅微粉中的游離碳及石墨與空氣中的氧氣反應,以二氧化碳或者一氧化碳的形式脫離碳化硅,從而實現(xiàn)了除碳的目的。 付仲超等利用高溫煅燒除去碳化硅微粉中的碳雜質(zhì)。該方法的最佳工藝條件為煅燒溫度為900℃,煅燒時間為3h,碳化硅內(nèi)部的碳雜質(zhì)得到了完全去除。 宋本營等以空氣為氧化介質(zhì)進行碳化硅微粉與碳雜質(zhì)的分離。實驗結(jié)果表明:當氧化溫度在450~560℃之間,氧化時間在4h,雜質(zhì)碳的去除率可以達到98.6%~99.2%
    認識晶須之王——碳化硅晶須[ 04-01 15:38 ]
     
    碳化硅陶瓷的基本特性[ 04-01 15:24 ]
      碳化硅陶瓷材料具有高溫強度大、高溫抗氧化性強、耐磨損性能好、熱穩(wěn)定性佳、熱膨脹系數(shù)小、熱導率大、硬度高、抗熱震和耐化學腐蝕等優(yōu)良特性,在汽車、機械化工、環(huán)境保護、空間技術(shù)、信息電子、能源等領域有著日益廣泛的應用,已經(jīng)成為一種在很多工業(yè)領域性能優(yōu)異的其他材料不可替代的結(jié)構(gòu)陶瓷。   基本特性 一、化學屬性   1、抗化合性:碳化硅材料在氧氣中反應達到1300℃時會生成二氧化硅保護層,抵制碳化硅繼續(xù)被化合。1900K是碳化硅在氧化劑氛圍下的最高工作氣溫。   2
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